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反應濺鍍AlCoCrCuFeNi多元氮化物及氧化物薄膜之製備、結構與性質...
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陳大坤
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反應濺鍍AlCoCrCuFeNi多元氮化物及氧化物薄膜之製備、結構與性質研究 = = Preparation, Structure and Properties of AlCoCrCuFeNi Multi-element Nitride and Oxide Films by Reactive Sputtering /
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:
反應濺鍍AlCoCrCuFeNi多元氮化物及氧化物薄膜之製備、結構與性質研究 = / 陳大坤撰
其他題名:
Preparation, Structure and Properties of AlCoCrCuFeNi Multi-element Nitride and Oxide Films by Reactive Sputtering /
其他題名:
Preparation, Structure and Properties of AlCoCrCuFeNi Multi-element Nitride and Oxide Films by Reactive Sputtering
作者:
陳大坤
出版者:
[花蓮縣] : 國立東華大學材料科學與工程學系, : 民97[2008],
面頁冊數:
357面 : 圖,表 ; 30公分
附註:
指導教授︰翁明壽
標題:
p型半導體 -
電子資源:
http://etd.lib.ndhu.edu.tw/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0122108-143225PDF全文
反應濺鍍AlCoCrCuFeNi多元氮化物及氧化物薄膜之製備、結構與性質研究 = = Preparation, Structure and Properties of AlCoCrCuFeNi Multi-element Nitride and Oxide Films by Reactive Sputtering /
陳大坤
反應濺鍍AlCoCrCuFeNi多元氮化物及氧化物薄膜之製備、結構與性質研究 =
Preparation, Structure and Properties of AlCoCrCuFeNi Multi-element Nitride and Oxide Films by Reactive Sputtering / Preparation, Structure and Properties of AlCoCrCuFeNi Multi-element Nitride and Oxide Films by Reactive Sputtering陳大坤撰 - [花蓮縣] : 國立東華大學材料科學與工程學系, 民97[2008] - 357面 : 圖,表 ; 30公分
指導教授︰翁明壽
博士論文--國立東華大學材料科學與工程學系,2008
參考書目︰面329-354Subjects--Topical Terms:
2634340
p型半導體
反應濺鍍AlCoCrCuFeNi多元氮化物及氧化物薄膜之製備、結構與性質研究 = = Preparation, Structure and Properties of AlCoCrCuFeNi Multi-element Nitride and Oxide Films by Reactive Sputtering /
LDR
:00953nam 2200193 i 4500
001
225038
005
20110131184352.0
008
090805n2008uuuuch e b 000 u eng d
035
$a
NDHU9703002
035
$a
225038
040
$a
東華
$b
chi
$e
ccr
066
$c
$1
100
1
$a
陳大坤
$e
撰
$3
2634339
245
1 0
$a
反應濺鍍AlCoCrCuFeNi多元氮化物及氧化物薄膜之製備、結構與性質研究 =
$b
Preparation, Structure and Properties of AlCoCrCuFeNi Multi-element Nitride and Oxide Films by Reactive Sputtering /
$c
陳大坤撰
246
1 1
$a
Preparation, Structure and Properties of AlCoCrCuFeNi Multi-element Nitride and Oxide Films by Reactive Sputtering
260
#
$a
[花蓮縣] :
$b
國立東華大學材料科學與工程學系,
$c
民97[2008]
300
$a
357面 :
$b
圖,表 ;
$c
30公分
500
$a
指導教授︰翁明壽
502
$a
博士論文--國立東華大學材料科學與工程學系,2008
504
$a
參考書目︰面329-354
650
# 7
$a
p型半導體
$2
csht
$3
2634340
650
# 7
$a
反應磁控濺鍍
$2
csht
$3
2634341
650
# 7
$a
多元合金薄膜
$2
csht
$3
2634342
650
# 7
$a
多元氧化物薄膜
$2
csht
$3
2634343
650
# 7
$a
多元氮化物薄膜
$2
csht
$3
2634344
650
# 7
$a
尖晶石氧化物
$2
csht
$3
2634345
650
# 7
$a
非晶質薄膜
$2
csht
$3
2589528
650
# 7
$a
高熵合金
$2
csht
$3
2394654
650
# 7
$a
透明導電氧化物
$2
csht
$3
2634346
650
# 7
$a
硬覆膜
$2
csht
$3
2634347
856
7 #
$u
http://etd.lib.ndhu.edu.tw/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0122108-143225
$z
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$2
http
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五樓論文區 (5F Theses & Dissertations)
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1
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五樓論文區 (5F Theses & Dissertations)
03.不外借_N
本校博士論文
TD 440.3 7544
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