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Chemical vapor deposition : = princi...
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Hitchman, Michael L.
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博客來
Chemical vapor deposition : = principles and applications /
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:
Chemical vapor deposition :/ edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen.
其他題名:
principles and applications /
其他作者:
Hitchman, Michael L.
出版者:
London ;Academic Press, : c1993.,
面頁冊數:
v, 677 p. :ill. ;24 cm.
標題:
Chemical vapor deposition. -
ISBN:
0123496705 :
Chemical vapor deposition : = principles and applications /
Chemical vapor deposition :
principles and applications /edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen. - London ;Academic Press,c1993. - v, 677 p. :ill. ;24 cm.
Includes bibliographical references and index.
ISBN: 0123496705 :US350.00
LCCN: 93125773Subjects--Topical Terms:
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Chemical vapor deposition.
LC Class. No.: TS695 / .C54 1993
Dewey Class. No.: 620/.44
Chemical vapor deposition : = principles and applications /
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館藏地:
全部
六樓西文書區HC-Z(6F Western Language Books)
出版年:
卷號:
館藏
1 筆 • 頁數 1 •
1
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典藏地名稱
館藏流通類別
資料類型
索書號
使用類型
借閱狀態
預約狀態
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W0061264
六樓西文書區HC-Z(6F Western Language Books)
01.外借(書)_YB
一般圖書
TS695 C54 1993
一般使用(Normal)
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