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以電漿化學氣相沈積法蒸鍍SiO 及Si(C,N)薄膜之研究 = = P...

楊東記

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博客來

以電漿化學氣相沈積法蒸鍍SiO 及Si(C,N)薄膜之研究 = = Plasma-enhanced chemical vapor deposition of SiO and Si(C,N) thin films /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	以電漿化學氣相沈積法蒸鍍SiO 及Si(C,N)薄膜之研究 = / 楊東記撰
其他題名:	Plasma-enhanced chemical vapor deposition of SiO and Si(C,N) thin films /
其他題名:	Plasma-enhanced chemical vapor deposition of SiO and Si(C,N) thin films
作者:	楊東記
其他作者:	郭東昊
出版者:	民88[1999],
面頁冊數:	xi,83面 : 圖,表格 ; 30公分
附註:	指導教授: 郭東昊
標題:	材料科學 -

以電漿化學氣相沈積法蒸鍍SiO 及Si(C,N)薄膜之研究 = = Plasma-enhanced chemical vapor deposition of SiO and Si(C,N) thin films /
楊東記

以電漿化學氣相沈積法蒸鍍SiO 及Si(C,N)薄膜之研究 = Plasma-enhanced chemical vapor deposition of SiO and Si(C,N) thin films / Plasma-enhanced chemical vapor deposition of SiO and Si(C,N) thin films楊東記撰 - 民88[1999] - xi,83面 : 圖,表格 ; 30公分

指導教授: 郭東昊

碩士論文--國立東華大學材料科學與工程研究所,1999

參考書目: 面74-82

贈閱Subjects--Topical Terms:

2075528
材料科學

以電漿化學氣相沈積法蒸鍍SiO 及Si(C,N)薄膜之研究 = = Plasma-enhanced chemical vapor deposition of SiO and Si(C,N) thin films /
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