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磁控濺鍍法製備閘極氧化層之釓-銦-氧薄膜研究 = = Magnetro...

賴忠信

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博客來

磁控濺鍍法製備閘極氧化層之釓-銦-氧薄膜研究 = = Magnetron Sputtering Gd-In-O Films for Gate Dielectrics of MOS Devices /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	磁控濺鍍法製備閘極氧化層之釓-銦-氧薄膜研究 = / 賴忠信撰
其他題名:	Magnetron Sputtering Gd-In-O Films for Gate Dielectrics of MOS Devices /
其他題名:	Magnetron Sputtering Gd-In-O Films for Gate Dielectrics of MOS Devices
作者:	賴忠信
出版者:	[花蓮縣壽豐鄉 : 國立東華大學電子工程研究所], : 民97[2008],
面頁冊數:	13,81面 : 圖,表 ; 30公分
附註:	指導教授︰郭東昊
標題:	金氧半 -
電子資源:	http://etd.lib.ndhu.edu.tw/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0711108-163117PDF全文

磁控濺鍍法製備閘極氧化層之釓-銦-氧薄膜研究 = = Magnetron Sputtering Gd-In-O Films for Gate Dielectrics of MOS Devices /
賴忠信

磁控濺鍍法製備閘極氧化層之釓-銦-氧薄膜研究 = Magnetron Sputtering Gd-In-O Films for Gate Dielectrics of MOS Devices / Magnetron Sputtering Gd-In-O Films for Gate Dielectrics of MOS Devices賴忠信撰 - [花蓮縣壽豐鄉 : 國立東華大學電子工程研究所], 民97[2008] - 13,81面 : 圖,表 ; 30公分

指導教授︰郭東昊

碩士論文--國立東華大學電子工程研究所,2008

參考書目︰面79-81Subjects--Topical Terms:

2394393
金氧半

磁控濺鍍法製備閘極氧化層之釓-銦-氧薄膜研究 = = Magnetron Sputtering Gd-In-O Films for Gate Dielectrics of MOS Devices /
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500 $a 指導教授︰郭東昊
502 $a 碩士論文--國立東華大學電子工程研究所,2008
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650 7 $a 釓銦氧 $2 csht $3 2702106
650 7 $a 射頻磁控濺鍍法 $2 csht $3 2528428
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