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成長與退火參數對濺鍍沉積二硫化鉬薄膜的影響 = = The Effect...

趙芝

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博客來

成長與退火參數對濺鍍沉積二硫化鉬薄膜的影響 = = The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	成長與退火參數對濺鍍沉積二硫化鉬薄膜的影響 =/ 趙芝撰
其他題名:	The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering /
其他題名:	The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering
作者:	趙芝
其他作者:	余英松
出版者:	[花蓮縣] :[國立東華大學材料科學與工程學系], : 2023,
面頁冊數:	[10], 91面 :圖,表 ;30公分
附註:	校內電子全文開放日期 2024/01/17
標題:	MoS2 -
電子資源:	http://134.208.29.108/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=G0611022107.id&searchmode=basic電子全文(依作者授權而定)

成長與退火參數對濺鍍沉積二硫化鉬薄膜的影響 = = The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering /
趙芝

成長與退火參數對濺鍍沉積二硫化鉬薄膜的影響 =The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering /The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering趙芝撰 - [花蓮縣] :[國立東華大學材料科學與工程學系], 2023 - [10], 91面 :圖,表 ;30公分

校內電子全文開放日期 2024/01/17

碩士論文--國立東華大學材料科學與工程學系

含參考書目Subjects--Topical Terms:

3322967
MoS2

成長與退火參數對濺鍍沉積二硫化鉬薄膜的影響 = = The Effects of growth parameters and post-annealing process on MoS2 thin film by magnetron sputtering /
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500 $a 校內電子全文開放日期 2024/01/17
500 $a 校外電子全文開放日期 2024/01/17
500 $a 國圖全文開放日期 2024/01/17
500 $a 畢業學年度: 111
500 $a 指導教授: 余英松
502 $a 碩士論文--國立東華大學材料科學與工程學系
504 $a 含參考書目
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650 # 7 $a magnetron sputter $2 lcstt $3 3618481
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