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電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = ...
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陳彥儒
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博客來
電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = = Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:
電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 =/ 陳彥儒撰
其他題名:
Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /
其他題名:
Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting
作者:
陳彥儒
其他作者:
徐裕奎
出版者:
花蓮縣 :光電工程學系, : 2018,
面頁冊數:
51面 :圖,表 ;30公分
附註:
校內電子全文開放日期 2019/08/28
標題:
N型氧化亞銅 -
電子資源:
http://134.208.29.108/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=G0610525007.id&searchmode=basic電子全文(依作者授權而定)
電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = = Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /
陳彥儒
電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 =
Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting陳彥儒撰 - 花蓮縣 :光電工程學系, 2018 - 51面 :圖,表 ;30公分
校內電子全文開放日期 2019/08/28
碩士論文--國立東華大學光電工程學系
含參考書目Subjects--Topical Terms:
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N型氧化亞銅
電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = = Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /
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畢業學年度: 106
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指導教授: 徐裕奎
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電子全文(依作者授權而定)
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館藏地:
全部
五樓論文區 (5F Theses & Dissertations)
出版年:
卷號:
館藏
1 筆 • 頁數 1 •
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GE0178464
五樓論文區 (5F Theses & Dissertations)
03.不外借_N
本校碩士論文
T 336 7502.1 2018
一般使用(Normal)
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