基材偏壓效應對碳摻雜二氧化鈦薄膜共濺鍍之結構與性質之研究 = = Su...
林光彥

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  • 基材偏壓效應對碳摻雜二氧化鈦薄膜共濺鍍之結構與性質之研究 = = Substrate bias effect on structure and properties of co-sputtered carbon-doped titanium oxide films /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 基材偏壓效應對碳摻雜二氧化鈦薄膜共濺鍍之結構與性質之研究 = / 林光彥撰
    其他題名: Substrate bias effect on structure and properties of co-sputtered carbon-doped titanium oxide films /
    其他題名: Substrate bias effect on structure and properties of co-sputtered carbon-doped titanium oxide films
    作者: 林光彥
    其他作者: 翁明壽
    出版者: [花蓮縣壽豐鄉] : [國立東華大學材料科學與工程學系], : 2013[民102],
    面頁冊數: 10,77面 : 圖,表 ; 30公分
    附註: 畢業學年度: 102
    電子資源: http://134.208.29.93/cgi-bin/cdrfb3/gsweb.cgi?o=dstdcdr&i=ssid=%2269722037%22.電子全文
館藏地:  出版年:  卷號: 
館藏
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GE0145544 五樓論文區 (5F Theses & Dissertations) 03.不外借_N 本校碩士論文 T 440.3 4490.2 2013 一般使用(Normal) 在架 0
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