以微波電漿化學氣相沉積法合成立方氮化硼與立方氮化硼/鑽石薄膜之研究 = ...
屈守恕

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  • 以微波電漿化學氣相沉積法合成立方氮化硼與立方氮化硼/鑽石薄膜之研究 = = Growth of c-BN and c-BN/diamond films via microwave plasma chemical vapor deposition /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 以微波電漿化學氣相沉積法合成立方氮化硼與立方氮化硼/鑽石薄膜之研究 = / 屈守恕撰
    其他題名: Growth of c-BN and c-BN/diamond films via microwave plasma chemical vapor deposition /
    其他題名: Growth of c-BN and c-BN/diamond films via microwave plasma chemical vapor deposition
    作者: 屈守恕
    出版者: [花蓮縣] : 國立東華大學材料科學與工程學系, : 民93[2004],
    面頁冊數: 10,91面 : 圖,表 ; 30公分
    附註: 指導教授︰翁明壽
    標題: 立方氮化硼 -
    電子資源: http://134.208.10.124/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0713104-151704PDF全文
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GE0039010 五樓論文區 (5F Theses & Dissertations) 03.不外借_N 本校碩士論文 T 440.3 7734 一般使用(Normal) 在架 0
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