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以微波電漿化學氣相沉積法合成立方氮化硼與立方氮化硼/鑽石薄膜之研究 = ...
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屈守恕
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以微波電漿化學氣相沉積法合成立方氮化硼與立方氮化硼/鑽石薄膜之研究 = = Growth of c-BN and c-BN/diamond films via microwave plasma chemical vapor deposition /
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:
以微波電漿化學氣相沉積法合成立方氮化硼與立方氮化硼/鑽石薄膜之研究 = / 屈守恕撰
其他題名:
Growth of c-BN and c-BN/diamond films via microwave plasma chemical vapor deposition /
其他題名:
Growth of c-BN and c-BN/diamond films via microwave plasma chemical vapor deposition
作者:
屈守恕
出版者:
[花蓮縣] : 國立東華大學材料科學與工程學系, : 民93[2004],
面頁冊數:
10,91面 : 圖,表 ; 30公分
附註:
指導教授︰翁明壽
標題:
立方氮化硼 -
電子資源:
http://134.208.10.124/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0713104-151704PDF全文
以微波電漿化學氣相沉積法合成立方氮化硼與立方氮化硼/鑽石薄膜之研究 = = Growth of c-BN and c-BN/diamond films via microwave plasma chemical vapor deposition /
屈守恕
以微波電漿化學氣相沉積法合成立方氮化硼與立方氮化硼/鑽石薄膜之研究 =
Growth of c-BN and c-BN/diamond films via microwave plasma chemical vapor deposition / Growth of c-BN and c-BN/diamond films via microwave plasma chemical vapor deposition屈守恕撰 - [花蓮縣] : 國立東華大學材料科學與工程學系, 民93[2004] - 10,91面 : 圖,表 ; 30公分
指導教授︰翁明壽
碩士論文--國立東華大學材料科學與工程學系,2004
參考書目︰面87-91Subjects--Topical Terms:
2409556
立方氮化硼
以微波電漿化學氣相沉積法合成立方氮化硼與立方氮化硼/鑽石薄膜之研究 = = Growth of c-BN and c-BN/diamond films via microwave plasma chemical vapor deposition /
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全部
五樓論文區 (5F Theses & Dissertations)
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GE0039010
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03.不外借_N
本校碩士論文
T 440.3 7734
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