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用電子束微影技術設計利於量測單一Sb2Se3奈米線光學特性的基板 = ...

楊承翰

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博客來

用電子束微影技術設計利於量測單一Sb2Se3奈米線光學特性的基板 = = Using E-beam Lithography design a substrate for measurement of optical properties of single Sb2Se3 nanowire /

Record Type:	Language materials, printed : Monograph/item
Title/Author:	用電子束微影技術設計利於量測單一Sb2Se3奈米線光學特性的基板 = / 楊承翰撰
Reminder of title:	Using E-beam Lithography design a substrate for measurement of optical properties of single Sb2Se3 nanowire /
remainder title:	Using E-beam Lithography design a substrate for measurement of optical properties of single Sb2Se3 nanowire
Author:	楊承翰
Published:	[花蓮縣] : 國立東華大學應用物理研究所, : 民96[2007],
Description:	11,94面 : 圖,表 ; 30公分
Notes:	指導教授︰林子強,孫建文
Subject:	激發光螢光光譜 -
Online resource:	http://etd.lib.ndhu.edu.tw/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0123107-153441PDF全文

用電子束微影技術設計利於量測單一Sb2Se3奈米線光學特性的基板 = = Using E-beam Lithography design a substrate for measurement of optical properties of single Sb2Se3 nanowire /
楊承翰

用電子束微影技術設計利於量測單一Sb2Se3奈米線光學特性的基板 = Using E-beam Lithography design a substrate for measurement of optical properties of single Sb2Se3 nanowire / Using E-beam Lithography design a substrate for measurement of optical properties of single Sb2Se3 nanowire楊承翰撰 - [花蓮縣] : 國立東華大學應用物理研究所, 民96[2007] - 11,94面 : 圖,表 ; 30公分

指導教授︰林子強,孫建文

碩士論文--國立東華大學應用物理研究所,2007

參考書目︰面90-94Subjects--Topical Terms:

2589097
激發光螢光光譜

用電子束微影技術設計利於量測單一Sb2Se3奈米線光學特性的基板 = = Using E-beam Lithography design a substrate for measurement of optical properties of single Sb2Se3 nanowire /
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